机译:通过原子层沉积在Gaas(111)a上的(La_2O_3 \)和\(La_ {2-x} Y_xO_3 \)的异质外延:实现低界面陷阱密度
机译:通过原子层沉积在GaAs(111)A上的La_2O_3和La_2-xY_xO_3的异质外延:实现低界面陷阱密度
机译:通过纳米雾低温原子层沉积,二维材料上的缩放双层栅氧化物中的界面陷阱密度低
机译:具有自清洁反应的InGaAs金属氧化物半导体场效应晶体管的原子层沉积BeO的界面缺陷密度低
机译:原子层沉积的HFO {Sub} 2膜沉积温度对界面化学结构的影响及界面陷阱密度
机译:在InAs(100)和GaAs(100)表面上高k金属氧化物原子层沉积过程中的表面化学和界面演化。
机译:使用原子层沉积在GaAs(001)和(111)上外延单晶Y2O3
机译:原子层沉积La2O3和La2-xYxO3在Gaas(111)a上的异质外延:实现低界面陷阱密度
机译:alGaas-Gaas界面中alGaas层的深陷阱。最终技术报告