首页> 外文OA文献 >Heteroepitaxy of \(La_2O_3\) and \(La_{2-x}Y_xO_3\) on GaAs (111)A by Atomic Layer Deposition: Achieving Low Interface Trap Density
【2h】

Heteroepitaxy of \(La_2O_3\) and \(La_{2-x}Y_xO_3\) on GaAs (111)A by Atomic Layer Deposition: Achieving Low Interface Trap Density

机译:通过原子层沉积在Gaas(111)a上的(La_2O_3 \)和\(La_ {2-x} Y_xO_3 \)的异质外延:实现低界面陷阱密度

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